高級氧化設備技術公司logo

應用領域新浪微博

高級氧化設備定製熱線

您所在的位置:首頁 > 技術資料 > 光催化原理與應用技術

光催化原理與應用技術

發布時間:2018-12-14 13:51  文章來源:未知  文章作者:高級氧化技術工程

  半導體光催化劑大多是n型半導體材料(當前以為TiO2使用最廣泛)都具有區別於金屬或絕緣物質的特別的能帶結構,即在價帶和導帶之間存在一個禁帶。由於半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關係,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區域。當光子能量高於半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表麵的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表麵的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。而超氧負離子和氫氧自由基具有很強的氧化性,能將絕大多數的有機物氧化至最終產物CO2和H2O,甚至對一些無機物也能徹底分解。
 

光催化原理圖
 

  利用光催化淨化技術去除空氣中的有機汙染物具有以下特點:

  1、直接用空氣中的氧氣做氧化劑,反應條件溫和(常溫 常壓)

  2、可以將有機汙染物分解為二氧化碳和水等無機小分子,淨化效果徹底。

  3、半導體光催化劑化學性質穩定,氧化還原性強,成本低,不存在吸附飽和現象,使用壽命長。光催化淨化技術具有室溫深度氧,二次汙染小,運行成本低和可望利用太陽光為反應光源等優點,所以光催化特別合適室內揮發有機物的淨化,在深度淨化方麵顯示出了巨大的應用潛力。

  常見的光催化劑多為金屬氧化物和硫化物,如Tio2, ZnO,CdS,WO3等,其中Tio2的綜合性能好,應用廣。自1972年Fujishima和Honda發現在受輻照的Tio2上可以持續發生水的氧化還原反應,並產生H2以來,人們對這一催化反應過程進行了大量研究。結果表明,Tio2具有良好的抗光腐蝕性和催化活性,而且性能穩定,價廉易得,無毒無害,是目前公認的光催化劑。該項技術不僅在廢水淨化處理方麵具有巨大潛力,在空氣淨化方麵同樣具有廣闊的應用前景。
 

光催化設備圖
 

  萊特萊德環境工程有限公司聯合國內外知名專家以及院校,專業提供電化學氧化高級技術、濕式氧化技術、光催化氧化技術、臭氧催化氧化技術、UV聯合工藝氧化技術、高級生物氧化技術,技術廣泛應用於工業有機廢水處理、抗生素製藥廢水、含氰廢水處理及其他水處理除氧工藝流程的應用。

相關文章

>> 產品推薦

Fenton氧化法的各種實施因素
Fenton氧化法的
濕式氧化技術應用於廢水處理
濕式氧化技術
臭氧高級氧化法主要用途及使用優點
臭氧高級氧化
電化學催化氧化法處理酚類物質
電化學催化氧
Fenton氧化法處理工藝和對象
Fenton氧化法處